Hai! Sebagai supplier Silicon Wafer 5 Inch (125mm)klik di sini untuk memeriksanya, Saya telah melihat banyak wafer dalam berbagai kondisi kebersihan. Membersihkan wafer ini sangatlah penting, baik Anda menggunakannya untuk pembuatan semikonduktor, penelitian, atau aplikasi teknologi tinggi lainnya. Jadi, mari selami cara membersihkan wafer silikon berukuran 5 inci.
Mengapa Membersihkan Wafer Silikon?
Sebelum kita masuk ke proses pembersihan, penting untuk memahami mengapa kita perlu membersihkan wafer ini. Selama pembuatan, penanganan, atau penyimpanan wafer silikon, semua jenis kontaminan dapat terbawa. Ini dapat mencakup partikel debu, residu organik dari sidik jari atau sarung tangan, dan bahkan kotoran logam. Jika kontaminan ini tidak dihilangkan, maka dapat mengacaukan kinerja perangkat semikonduktor akhir. Misalnya, satu partikel debu dapat menyebabkan korsleting pada transistor kecil pada wafer, yang menyebabkan produk cacat.
Persiapan Pra-Pembersihan
Hal pertama yang pertama, Anda perlu mengumpulkan semua persediaan yang diperlukan. Anda memerlukan lingkungan kamar bersih jika memungkinkan. Ruang bersih membantu meminimalkan masuknya kontaminan baru selama proses pembersihan. Anda juga memerlukan beberapa bahan kimia pembersih, air deionisasi, dan alat pembersih yang sesuai.
Untuk bahan kimia pembersih, yang umum digunakan adalah hidrogen peroksida (H₂O₂), asam sulfat (H₂SO₄), dan amonium hidroksida (NH₄OH). Namun hati-hati dengan bahan kimia ini karena bisa sangat berbahaya. Selalu kenakan alat pelindung diri (APD) yang sesuai, seperti sarung tangan, kacamata, dan jas lab.
Proses Pembersihan
1. Pembersihan Pelarut
Langkah pertama dalam membersihkan wafer silikon berukuran 5 inci biasanya adalah pembersihan dengan pelarut. Ini membantu menghilangkan kontaminan organik seperti minyak dan lemak. Anda dapat menggunakan pelarut seperti aseton dan isopropil alkohol (IPA).
Mulailah dengan menempatkan wafer dalam bak pelarut. Aseton sangat bagus dalam melarutkan berbagai jenis bahan organik. Biarkan wafer terendam dalam aseton selama beberapa menit. Kemudian keluarkan dan bilas dengan isopropil alkohol. IPA kurang agresif dibandingkan aseton dan membantu menghilangkan residu aseton yang tersisa. Setelah pembilasan IPA, bilas wafer dengan cepat dengan air deionisasi untuk menghilangkan IPA.
2. Pembersihan RCA
Proses pembersihan RCA adalah metode yang terkenal dan banyak digunakan untuk membersihkan wafer silikon. Ini terdiri dari dua langkah utama: Standard Clean 1 (SC1) dan Standard Clean 2 (SC2).
Standar Bersih 1 (SC1):
Larutan SC1 adalah campuran amonium hidroksida (NH₄OH), hidrogen peroksida (H₂O₂), dan air deionisasi dengan perbandingan sekitar 1:1:5 hingga 1:2:7. Larutan ini digunakan untuk menghilangkan kontaminan organik dan partikel dari permukaan wafer.
Panaskan larutan SC1 hingga suhu sekitar 70 - 80°C. Tempatkan wafer ke dalam larutan panas dan biarkan terendam selama sekitar 10 - 15 menit. Amonium hidroksida membantu memecah bahan organik, dan hidrogen peroksida bertindak sebagai zat pengoksidasi. Setelah waktu perendaman, keluarkan wafer dan bilas hingga bersih dengan air deionisasi.
Standar Bersih 2 (SC2):
Larutan SC2 merupakan campuran asam klorida (HCl), hidrogen peroksida (H₂O₂), dan air deionisasi dengan perbandingan sekitar 1:1:6. Larutan ini digunakan untuk menghilangkan kontaminan logam dari permukaan wafer.
Panaskan juga larutan SC2 hingga sekitar 70 - 80°C. Rendam wafer dalam larutan SC2 selama kurang lebih 10 - 15 menit. Asam klorida membantu melarutkan kotoran logam, dan hidrogen peroksida menjaga proses oksidasi tetap berjalan. Setelah direndam, bilas kembali wafer dengan air deionisasi.
3. Bilas dan Pengeringan Terakhir
Setelah semua langkah pembersihan kimiawi, bilas wafer terakhir dengan air deionisasi. Air deionisasi harus berkualitas tinggi, dengan resistivitas minimal 18 MΩ·cm. Ini membantu menghilangkan residu kimia yang tersisa dari permukaan wafer.
Untuk mengeringkan wafer bisa menggunakan spin-dryer. Tempatkan wafer ke dalam spin-dryer dan putar dengan kecepatan tinggi. Gaya sentrifugal membantu menghilangkan air dari permukaan wafer. Anda juga dapat menggunakan gas nitrogen untuk mengeringkan wafer, yang merupakan cara lembut dan efektif untuk menghilangkan sisa tetesan air.
Pasca - Inspeksi Pembersihan
Setelah wafer bersih dan kering, penting untuk memeriksanya. Anda dapat menggunakan mikroskop untuk memeriksa sisa kontaminan atau kerusakan pada permukaan wafer. Jika Anda menemukan masalah apa pun, Anda mungkin perlu mengulangi proses pembersihan atau mengambil tindakan perbaikan lainnya.
Pertimbangan Lainnya
Jika Anda berurusan dengan aplikasi yang sangat sensitif, Anda mungkin ingin mempertimbangkan untuk menggunakan metode pembersihan plasma. Pembersihan plasma menggunakan plasma bersuhu rendah untuk menghilangkan kontaminan dari permukaan wafer. Ini adalah metode yang lebih canggih dan tepat tetapi juga lebih mahal.
Selain itu, pastikan untuk menangani wafer yang sudah dibersihkan dengan hati-hati. Gunakan pinset atau alat penanganan yang bersih untuk menghindari kontaminasi ulang wafer.
Produk Terkait
Jika Anda tertarik dengan wafer silikon ukuran lain, kami juga menawarkanWafer Silikon 12 inci (300mm)DanWafer Silikon 8 Inci (200mm). Wafer ini melalui proses pembersihan serupa untuk memastikan kinerja berkualitas tinggi.
Kontak untuk Pembelian
Jika Anda sedang mencari wafer silikon 5 inci berkualitas tinggi atau memiliki pertanyaan tentang proses pembersihan atau produk kami yang lain, jangan ragu untuk menghubungi kami. Kami di sini untuk membantu Anda memenuhi semua kebutuhan wafer silikon Anda. Baik Anda seorang peneliti skala kecil atau produsen semikonduktor skala besar, kami mempunyai wafer yang tepat untuk Anda.
Referensi
- "Buku Panduan Teknologi Pembersihan Wafer Silikon" oleh Yoshio Nishi dan Ronald Doering
- "Teknologi Manufaktur Semikonduktor" oleh Stanley Wolf dan Richard N. Tauber